西瓜膜栽培的三种形式和整地铺膜要点

　　一、西瓜膜覆盖栽培形式

　　地膜覆盖栽培在各地生产实践中，根据不同环境条件、不同栽培方式有多种多样的覆盖形式，发挥出不同的栽培成效，现基本归纳为三类，简介如下：

　　1、普通平面覆盖。各地地膜覆盖栽培西瓜中采用多的形式是地膜紧贴地面，在地膜与土表之间不留空隙。一般是条带形状覆盖瓜行畦面，南方地区个别地方也有全畦覆盖。这种形式对土壤的增温保墒成效好，地表升温快，杂草生长困难，操作管理简便。缺点是播种定植后的瓜苗生长于地膜上开放空间，播种定植期受季节气候制约限制，早熟成效稍差。

　　2、改良式空穴覆盖。在普通平面覆盖的基础上，将播种定植处挖能容瓜苗短期生长的小土坑，能提早定植播种期 1～2 周，进一步发挥地膜西瓜的早熟效应。但应注意幼苗生长后期要防止膜下高温烧瓜苗，一般在当地终霜后应及时破膜放风，逐步锻炼幼苗适应露地环境。同时还应及时拔除穴内杂草。

　　3、改良式地膜棚覆盖。利用地膜进行高较低、范围较小的微型棚盖，如帽式单株覆盖、沟畦式覆盖、小阳畦式覆盖等多种棚盖样式。其优点是能提早播种定植期1个月左右，发挥地膜西瓜的早熟效应，且投资成本大大低于小棚覆盖农膜栽培。主要应注意保护地膜，防止覆盖期间膜的破损，在覆盖中后期及时做好通风炼苗并及时除草。

　　二、西瓜膜覆盖栽培整地铺膜要点

　　地膜西瓜栽培盖膜的效应与整地铺膜的质量密切相关，地膜与地表贴压的紧密程度越高，盖地膜对土壤增温保墒的成效越好，地膜西瓜早熟、增产的成效越好。地膜对上面一层土壤温湿环境的改良比下层土壤好，因此地膜西瓜的根系分布也较普通露地西瓜浅，在耕翻整地时地膜西瓜的耕作层可比露地西瓜适当浅一些。

　　为保障地膜与地面间的紧密度，先要认真做好整地工作，做到表土无石头瓦块、无草根秸秆等硬物，不要铺膜杂物损坏地膜，畦面要整成圆弧形，铺膜时便于使地膜贴紧土表。其次铺膜时要多人协调进行，先在畦面四周开好压膜沟，之后四边拉紧后边拉地膜前行边埋土，全畦埋好后将压膜沟用脚踏实，地膜埋入土中宽度一般约 10cm。

　　为了保持地膜与地表的紧贴度，条件许可时应先播种或先定植再覆地膜，以保持膜面完整，保温保墒成效稳定。因土质或劳力等因素需先覆膜后播种或定植时，在播种、定植操作时应尽量小心，以免对畦面平整度破坏较大影响西瓜膜覆盖的成效。